氦質(zhì)譜檢漏儀實(shí)現(xiàn)性能提升的一個(gè)總原則是提高信噪比。這個(gè)過(guò)程中，氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲控制是很重要的一個(gè)環(huán)節(jié)。今天諾益與大家一起來(lái)了解下，哪些情況會(huì)導(dǎo)致氦質(zhì)譜檢漏儀本底噪聲較高。

氦質(zhì)譜檢漏儀的噪聲主要來(lái)源于電路噪聲和本底噪聲，目前設(shè)備電子線路和電子元件的改進(jìn)，使得電路噪聲已經(jīng)降得很低，因此氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲成為影響設(shè)備性能的主要因素。而其本底噪聲的產(chǎn)生主要是由于本底峰的不穩(wěn)定造成的，主要形成的原因包括：

一、離子源中的發(fā)射電流、加速電壓以及分析器的電磁參數(shù)不穩(wěn)定。

二、真空油脂、橡膠材料、有機(jī)絕緣材料都可吸附和再釋放出氦氣，而電離規(guī)，特別是磁放電真空規(guī)對(duì)氦有記憶效應(yīng)，其表面污染時(shí)就更為嚴(yán)重。

三、抽氣系統(tǒng)中抽速不穩(wěn)定和氦的反擴(kuò)散。

四、檢漏儀中空氣的本底影響。

五、殘余氣體分子對(duì)離子的散射作用。

六、燈絲和其他電極受機(jī)械振動(dòng)引起的效應(yīng)。

因此，為盡量消除氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲，需要針對(duì)性的采取措施，如減少采用有機(jī)材料，不用磁放電規(guī)，提高檢漏儀的工作真空度，保證穩(wěn)定抽速等等。另外檢漏時(shí)切勿將大量的氦氣通進(jìn)儀器，避免本底太大，難以清除。