檢漏技術的發(fā)展

檢漏技術在真空領域占有非常重要的地位，它關系到真空設備的各項真空指標。如何快速精準地找到漏點，關系到企業(yè)的生產(chǎn)效率與經(jīng)營成本。

檢漏技術是一門不斷發(fā)展、不斷完善的技術，多年來，人們創(chuàng)造了很多檢漏方法。

上世紀四十年代以前的技術非常簡單，比如氣泡法、電離計法等。當時，漏率ZUI高只能檢測到10^-7Pa·m^3/s。

后來，經(jīng)過不斷的完善與提高，在1950~1960年代，研制者朝著提高靈敏度的方向努力，使靈敏度一度達到了10^-15Pa·m^3/s。

然而實踐證明，單一追求高靈敏度并非合適，這會給檢漏儀的生產(chǎn)制造帶來一些麻煩。后來，人們將精力主要放在了儀器的穩(wěn)定性、可靠性、小型化、簡單化、檢漏過程迅速化上面。

當今常見的氦質譜檢漏儀，靈敏度在10^-9~10^-13Pa·m^3/s。較為先進的檢漏儀壓力在幾萬Pa就可檢漏。便攜式的檢漏儀，一個人就可以搬運。甚至有些檢漏儀已經(jīng)可以通過手機APP遠程控制檢測。

這些技術上的進步，使檢漏工作的效率和便利性得到很大提升，應用氦質譜檢漏儀已經(jīng)成為檢漏技術中的主要方法。

氦質譜檢漏儀的基本原理與組成

氦質譜檢漏儀由離子源、分析器、真空系統(tǒng)、電子線路及其他電氣部分組成。

目前的氦質譜檢漏儀基本上都是磁偏轉型的，現(xiàn)以180°的磁偏轉型檢漏儀為例加以說明。圖1是檢漏儀的原理圖。

在質譜室的離子源N內(nèi)，氣體被電離成離子。在電場作用下，離子聚焦成束，并以一定的速度經(jīng)由縫隙S1進入磁分析器，在均勻磁場的作用下，具有一定速度的離子束，將按圓形軌跡運動。其偏轉半徑按下列公式計算：

R=1.8（MU）^1/2/H

式中，R為偏轉半徑（cm）；H為磁場強度（A/m）；M為有效質量，即離子質量和電荷質量之比；U為加速電壓（V）。

由上式可以看出，當H和U為定值時，對應于不同的M，有不同的R。調節(jié)加速電壓U使氦離子束M2恰能通過縫隙S2，到達收集極K而形成離子流。

利用弱電流測量設備，使之在輸出儀表與音響裝置上反映出來。而其他不同于M2的離子束（如圖中M1、M3）則以不同的偏轉半徑而被分開。